Gases especiais para eletrónica
Os nossos produtos são projetados para oferecer alta precisão e estabilidade, atendendo a aplicações na fabricação de LED, energia fotovoltaica, fibra ótica e microeletrónica. Cada lote é produzido sob rigoroso controlo de qualidade com total rastreabilidade, garantindo desempenho seguro e consistente para os ambientes mais exigentes.
Hidretos dos grupos V e VI
Arsina (AsH₃)
- Grau: 99,9995%
- Número CAS: 7784-42-1
- Peso da fórmula: 77,95
Aplicações
- Dopagem do tipo N, difusão e crescimento epitaxial de semicondutores compostos, tais como arsenieto de gálio (GaAs)
Características
- Pureza e estabilidade ultra-elevadas
- Decomposição uniforme e baixa geração de partículas
- Adequado para sistemas MOCVD e VPE
Fosfina (PH₃)
- Grau: 99,9997%
- Número CAS: 7803-51-2
- Peso da fórmula: 33,99
Aplicações
- Substrato semicondutor e crescimento da camada epitaxial, dopagem e implantação de iões
Características
- Alta pureza e entrega consistente
- Excelente compatibilidade com sistemas de produção de alto volume
- Amplamente utilizado no crescimento de InP, GaP e materiais III-V relacionados
Seleneto de hidrogénio (H₂Se)
- Classificação: 99,998%
- Número CAS: 7783-07-5
- Peso da fórmula: 80,98
Aplicações
- Fabricação de semicondutores II-VI, tais como seleneto de zinco (ZnSe) e seleneto de cádmio (CdSe)
Características
- Baixo teor de impurezas e alta precisão no controlo do fluxo
- Estável em condições de armazenamento controladas
- Utilizado na produção de materiais infravermelhos
Germane (GeH₄)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 7782-65-2
- Peso da fórmula: 76,64
Aplicações
- Crescimento epitaxial de germânio e camada de SiGe, células solares e fibra ótica
Características
- Baixo teor de impurezas e alta precisão no controlo do fluxo
- Estável em condições de armazenamento controladas
- Utilizado na produção de materiais infravermelhos
Hidretos dos grupos III e IV
Diborano (B₂H₆)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 19287-45-7
- Peso da fórmula: 27,67
Aplicações
- Dopagem do tipo P para semicondutores, crescimento epitaxial e implantação de iões
Características
- Excelente controlo da dopagem com boro
- Decomposição estável para qualidade consistente do filme
- Também utilizado em síntese especializada e investigação de alta energia
Silano (SiH₄)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 7803-62-5
- Peso da fórmula: 32,12 Aplicações
Aplicações
- Deposição de camadas de silício policristalino, amorfo e epitaxial em processos CVD
Características
- Alta reatividade e pureza para aplicações em filmes finos de grande área
- Material de base essencial para as indústrias solar e de semicondutores
- Características de fluxo estáveis e precisas
Hálogenetos e gases de limpeza
Trifluoreto de azoto (NF₃)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 7783-54-2
- Peso da fórmula: 71,00
Aplicações
- Limpeza de câmaras e superfícies de wafers na fabricação de semicondutores, fotovoltaicos e monitores
Características
- Limpeza por plasma de alta eficiência
- Potencial de aquecimento global inferior ao dos perfluorocarbonetos
- Fluxo de gás estável e resíduos mínimos
Tricloreto de boro (BCl₃)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 10294-34-5
- Peso da fórmula: 117,16
Aplicações
- Gravação, limpeza e dopagem em processos de semicondutores
Características
- Desempenho fiável para gravação à base de plasma
- Também utilizado como catalisador e reagente na síntese orgânica.
- Os sistemas de administração resistentes à corrosão garantem segurança e pureza
Tetraclorosilano (SiCl₄)
- Grau: 99,999%
- Número CAS: 10026-04-7
- Peso da fórmula: 169,90
Aplicações
- Precursor para silício de alta pureza, sílica fundida e fabricação de pré-formas de fibra ótica
Características
- Vaporização estável e controlo preciso
- Excelente pureza de grau óptico
- Comumente usado na produção de silício epitaxial e fibra
Qualidade, segurança e gestão ambiental
A Vital Materials mantém instalações de produção com certificação ISO 9001 e ISO 14001, garantindo consistência e fiabilidade excepcionais em todas as entregas. Cada lote é submetido a rigorosos testes de impurezas, incluindo análises de H₂O, O₂, CO, CO₂ e CH₄. Os cilindros são purgados a vácuo, passivados e verificados sob rigorosos protocolos de segurança.
As nossas instalações globais de produção de gás integram sistemas avançados de purificação, tratamento de resíduos em circuito fechado e recuperação de gás para reduzir as emissões e o uso de recursos. Todos os produtos são fornecidos com um Certificado de Análise (COA) e uma Ficha de Dados de Segurança de Materiais (MSDS) para total rastreabilidade.
Aplicações
- Semicondutores compostos (GaAs, InP, GaN, ZnSe, CdSe)
- LEDs e díodos laser
- Energia solar fotovoltaica e filmes finos
- Fibra Ótica e Materiais Infravermelhos
- Microeletrónica de alta velocidade
Sustentabilidade e compromisso com ESG
Materiais vitais
A Vital Materials está comprometida com o crescimento sustentável e a produção responsável. Através da recuperação circular de recursos, produção com baixas emissões e transparência na cadeia de abastecimento, mantemos os mais elevados padrões ambientais, sociais e de governança (ESG).
As nossas iniciativas incluem:
- Reciclagem de gases usados e subprodutos
- Tratamento de resíduos perigosos e recuperação de metais raros e preciosos
- Abastecimento responsável em conformidade com as diretrizes da OCDE
- Melhoria contínua na eficiência energética e redução de emissões
Por que materiais vitais
- Produção e purificação verticalmente integradas
- Presença global na produção para garantir a estabilidade do abastecimento
- Certificações abrangentes de segurança e qualidade
- Suporte técnico desde a seleção de materiais até a otimização de processos