Gases especiales para electrónica
Nuestros productos están diseñados para ofrecer una alta precisión y estabilidad, y se utilizan en aplicaciones de fabricación de LED, energía fotovoltaica, fibra óptica y microelectrónica. Cada lote se produce bajo un estricto control de calidad con total trazabilidad, lo que garantiza un rendimiento seguro y constante para los entornos más exigentes.
Hidruros de los grupos V y VI
Arsina (AsH₃)
- Grado: 99,9995 %
- Número CAS: 7784-42-1
- Peso de la fórmula: 77,95
Aplicaciones
- Dopaje de tipo N, difusión y crecimiento epitaxial de semiconductores compuestos como el arseniuro de galio (GaAs).
Características
- Pureza y estabilidad ultra altas
- Descomposición uniforme y baja generación de partículas.
- Adecuado para sistemas MOCVD y VPE.
Fosfina (PH₃)
- Calificación: 99,9997 %
- Número CAS: 7803-51-2
- Peso de la fórmula: 33,99
Aplicaciones
- Crecimiento, dopaje e implantación iónica de sustratos semiconductores y capas epitaxiales.
Características
- Alta pureza y suministro constante
- Excelente compatibilidad con sistemas de producción de gran volumen.
- Ampliamente utilizado en el crecimiento de InP, GaP y materiales III-V relacionados.
Seleniuro de hidrógeno (H₂Se)
- Calificación: 99,998 %
- Número CAS: 7783-07-5
- Peso de la fórmula: 80,98
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores II-VI, como seleniuro de zinc (ZnSe) y seleniuro de cadmio (CdSe).
Características
- Bajo contenido de impurezas y alta precisión en el control del flujo.
- Estable en condiciones de almacenamiento controladas.
- Utilizado en la producción de materiales infrarrojos.
Germano (GeH₄)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 7782-65-2
- Peso de la fórmula: 76,64
Aplicaciones
- Crecimiento epitaxial de capas de germanio y SiGe, células solares y fibra óptica.
Características
- Bajo contenido de impurezas y alta precisión en el control del flujo.
- Estable en condiciones de almacenamiento controladas.
- Utilizado en la producción de materiales infrarrojos.
Hidruros de los grupos III y IV
Diborano (B₂H₆)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 19287-45-7
- Peso de la fórmula: 27,67
Aplicaciones
- Dopaje de tipo P para semiconductores, crecimiento epitaxial e implantación iónica.
Características
- Excelente control del dopaje con boro
- Descomposición estable para una calidad de película constante
- También se utiliza en síntesis especializadas e investigación de alta energía.
Silano (SiH₄)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 7803-62-5
- Peso de la fórmula: 32,12 Aplicaciones
Aplicaciones
- Deposición de capas de silicio policristalino, amorfo y epitaxial en procesos CVD.
Características
- Alta reactividad y pureza para aplicaciones de película fina en grandes superficies.
- Materiales clave para las industrias solar y de semiconductores.
- Características de flujo estables y precisas
Haluros y gases de limpieza
Trifluoruro de nitrógeno (NF₃)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 7783-54-2
- Peso de la fórmula: 71,00
Aplicaciones
- Limpieza de cámaras y superficies de obleas en la fabricación de semiconductores, fotovoltaicos y pantallas.
Características
- Limpieza por plasma de alta eficiencia
- Menor potencial de calentamiento global que los perfluorocarbonos.
- Flujo de gas estable y residuos mínimos
Tricloruro de boro (BCl₃)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 10294-34-5
- Peso de la fórmula: 117,16
Aplicaciones
- Grabado, limpieza y dopaje en procesos de semiconductores
Características
- Rendimiento fiable para el grabado por plasma
- También se utiliza como catalizador y reactivo en síntesis orgánica.
- Los sistemas de suministro resistentes a la corrosión garantizan la seguridad y la pureza.
Tetraclorosilano (SiCl₄)
- Grado: 99,999 %
- Número CAS: 10026-04-7
- Peso de la fórmula: 169,90
Aplicaciones
- Precursor para la fabricación de silicio de alta pureza, sílice fundida y preformas de fibra óptica.
Características
- Vaporización estable y control preciso
- Excelente pureza óptica
- Se utiliza habitualmente en la producción de silicio epitaxial y fibra.
Calidad, seguridad y gestión medioambiental
Vital Materials cuenta con plantas de producción con certificación ISO 9001 e ISO 14001, lo que garantiza una consistencia y fiabilidad excepcionales en cada entrega. Cada lote se somete a rigurosas pruebas de impurezas, incluyendo análisis de H₂O, O₂, CO, CO₂ y CH₄. Los cilindros se purgan al vacío, se pasivan y se verifican bajo estrictos protocolos de seguridad.
Nuestras instalaciones globales de fabricación de gases integran sistemas avanzados de purificación, tratamiento de residuos en circuito cerrado y recuperación de gases para reducir las emisiones y el uso de recursos. Todos los productos se suministran con un certificado de análisis (COA) y una ficha de datos de seguridad (MSDS) para garantizar su total trazabilidad.
Aplicaciones
- Semiconductores compuestos (GaAs, InP, GaN, ZnSe, CdSe)
- LED y diodos láser
- Fotovoltaica solar y películas delgadas
- Fibra óptica y materiales infrarrojos
- Microelectrónica de alta velocidad
Sostenibilidad y compromiso ESG
Materiales vitales
Vital Materials está comprometida con el crecimiento sostenible y la fabricación responsable. A través de la recuperación circular de recursos, la producción con bajas emisiones y la transparencia de la cadena de suministro, mantenemos los más altos estándares ambientales, sociales y de gobernanza (ESG).
Nuestras iniciativas incluyen:
- Reciclaje de gases residuales y subproductos
- Tratamiento de residuos peligrosos y recuperación de metales raros y preciosos.
- Abastecimiento responsable de acuerdo con las directrices de la OCDE
- Mejora continua en la eficiencia energética y la reducción de emisiones.
¿Por qué materiales vitales?
- Producción y purificación integradas verticalmente.
- Presencia global en la fabricación para garantizar la estabilidad del suministro
- Certificaciones integrales de seguridad y calidad
- Asistencia técnica desde la selección de materiales hasta la optimización de procesos.