Verdampfung Materialien
Dank der vertikal integrierten Lieferkette, fortschrittlichen Reinigungstechnologien und internen Recyclingkapazitäten von Vital haben wir die vollständige Kontrolle über die Qualität der Rohstoffe. Jede Produktcharge wird strengen Analysen, Beschichtungstests und einer rückverfolgbaren Qualitätskontrolle unterzogen, um eine gleichbleibende Leistung, minimale Verunreinigungen und ein optimiertes Schmelzverhalten zu gewährleisten.
Wir bieten Materialien mit hoher Reinheit, ausgezeichneter Dichte und geringen Spritzeigenschaften sowohl für die Forschung und Entwicklung als auch für die Massenproduktion. Die Produkte können hinsichtlich Zusammensetzung, Reinheit, Form und Größe an spezifische Beschichtungsanforderungen angepasst werden.
Hochreine Metalle
Wird für reflektierende, dekorative und Kontaktbeschichtungen verwendet.
Aluminium (Al)
- Hochreflektierende Folien, 99,999 %
Chrom (Cr)
- Haft-, dekorative und funktionelle Beschichtungen
Kupfer (Cu)
- Leitfähige und dekorative Beschichtungen
Hafnium (Hf)
- Hoher Brechungsindex für Laserbeschichtungen
Indium (In)
- Kontakt- und Dekorschichten
Nickel (Ni)
- Haft- und Sperrschichten
Silizium (Si)
- NIR-IR-optische Beschichtungen
Zinn (Sn)
- Dekorative Beschichtungen und Kontaktbeschichtungen
Titan (Ti)
- Optische, schützende und verschleißfeste Schichten
Oxide
Für Beschichtungen mit hohem und mittlerem Brechungsindex in optischen und Halbleiteranwendungen.
Al₂O₃ (Aluminiumoxid)
- Mittlerer Brechungsindex, NUV–VIS–NIR
HfO₂ (Hafniumoxid)
- Hoher Brechungsindex für Laseroptik
ITO (Indiumzinnoxid)
- Transparente leitfähige Folie, In₂O₃/SnO₂ (95/5–83/17 Gew.-%)
Nb₂O₅ (Nioboxid)
- VIS–NIR hoher Brechungsindex
Ta₂O₅ (Tantaloxid)
- NUV–VIS–NIR hoher Brechungsindex
Ti₃O₅ / TiO₂
- VIS–NIR-Beschichtungen, optische Filter
SiO₂ (Siliziumdioxid), ZrO₂ (Zirkoniumdioxid)
- Schutz- und optische Beschichtungen
Selenide und Sulfide
Für Dünnschicht-Halbleiter, Optoelektronik und Solaranwendungen.
CdSe (Cadmiumselenid)
- Fotoleiter und Emitter
Zink-Selenid, Zink-Sulfid
- Infrarot- und Laser-optische Beschichtungen
MgS, In₂S₃
- Halbleiter- und Photovoltaikanwendungen
Fluoride
Verwendung in Infrarot- und Laseroptiken für Beschichtungen mit niedrigem Brechungsindex.
BaF₂ (Bariumfluorid)
- IR-optische Beschichtungen
CeF₃ (Ceriumfluorid)
- IR niedriger Brechungsindex
MgF₂ (Magnesiumfluorid)
- Standardschicht mit niedrigem Brechungsindex
YF₃ (Yttriumfluorid)
- IR-Laseroptik
YbF₃ (Ytterbiumfluorid)
- IR- und Hochleistungslaseroptik
Formen und Gestalten
Erhältlich in Granulat-, Tabletten-, Pellet-, Scheibenform oder in kundenspezifischen Geometrien, optimiert für bestimmte Verdampfungssysteme und Beschichtungsparameter.
Anwendungen
- Anzeigen: OLED, LCD und Micro-LED
- Optik: Beschichtungen mit hohem und niedrigem Brechungsindex
- Halbleiter: Verbindungsschichten und Kontaktschichten
- Solarenergie: Dünnschicht-Photovoltaikbeschichtungen
- Glasbeschichtungen: Low-E- und Dekorfolien
- Datenspeicherung: Reflektierende und schützende Beschichtungen
Qualität und Dokumentation
Alle Produkte werden geliefert mit:
- Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
- Konformitätsbescheinigung (COC) oder Analysezertifikat (COA)
- Rückverfolgbarkeit der Chargen und Validierung der Beschichtungstests
Warum lebenswichtige Materialien
- Vertikal integrierte Lieferkette für Metalle und Verbindungen
- Interne Raffinerie- und Recyclingkapazitäten zur Gewährleistung der Reinheit
- Anpassbare Reinheiten (bis zu 5N+) und Formen für alle Verdampfungssysteme
- Weltweiter technischer Support und Zusammenarbeit im Bereich Beschichtungsforschung und -entwicklung