Indiumphosphid
Da die KI-Infrastruktur und Hochgeschwindigkeitsnetzwerke den Bedarf an größerer Bandbreite ankurbeln, wird ein zuverlässiger Zugang zu Indiumphosphid immer wichtiger. Vital Materials bündelt Kompetenzen in den Bereichen InP-Materialien, Substrate, Epitaxie, photonische Bauelemente und optische Konnektivität, um eine skalierbare Produktion für 1,6-T-Architekturen und Architekturen der nächsten Generation zu ermöglichen.
Verfügbare InP-Substrate
Halbisolierendes InP
- Dotierstoff: Eisen (Fe)
- Verfügbare Durchmesser: 2, 3 und 4 Zoll
- Anbaumethode: VGF
- Spezifischer Widerstand: ≥ 0,5 × 10⁷ Ω·cm
- EPD: ≤ 5.000/cm²
N-Typ-InP
- Dotierstoff: Schwefel oder Zinn (S oder Sn)
- Verfügbare Durchmesser: 2, 3, 4 und 6 Zoll
- Anbaumethode: VGF
- Trägerkonzentration: 0,8 bis 8 × 10¹⁸ cm⁻³
- EPD: ≤ 5.000/cm²
Undotiertes InP vom N-Typ
- Dotierstoff: Undotiert
- Verfügbare Durchmesser: 2, 3 und 4 Zoll
- Anbaumethode: VGF
- Mobilität: 3.000 bis 5.000 cm²/V·s
- EPD: ≤ 5.000/cm²
InP vom p-Typ
- Dotierstoff: Zink (Zn)
- Verfügbare Durchmesser: 2, 3 und 4 Zoll
- Anbaumethode: VGF
- Trägerkonzentration: 0,8 bis 8 × 10¹⁸/cm³
- EPD: ≤ 5.000/cm²
Anwendungsbereiche von Indiumphosphid
Optische Kommunikation
InP ermöglicht eine effiziente Lichterzeugung und -detektion für optische Hochgeschwindigkeitsnetzwerke.
Typische Anwendungen
- DFB- und EML-Laser
- PIN- und APD-Fotodetektoren
- Optische Hochgeschwindigkeitsmodule
- Fern- und Nahverkehrsnetze
KI-Rechenzentren und CPO
Photonische InP-Bauelemente bieten die Geschwindigkeit und die optische Leistung, die für die Konnektivität von Rechenzentren der nächsten Generation erforderlich sind.
Typische Anwendungen
- 800G, 1,6T und zukünftige Architekturen
- AI-Cluster-Verbindungen
- Gemeinsam verpackte Optikmodule
- Nahezu integrierte Optik
- Dauerstrich-Laserquellen
HF, Mikrowellen und Drahtlostechnik
Aufgrund seiner hohen Elektronenbeweglichkeit eignet sich InP besonders gut für anspruchsvolle hochfrequente und rauscharme elektronische Bauelemente.
Typische Anwendungen
- HEMTs und HBTs
- MMICs und RFICs
- Satellitenkommunikation
- Radarsysteme
- 5G- und WLAN-Netzwerke
Qualitäts- und Fertigungskontrolle
Wichtige Materialien
Vital Materials stellt InP-Substrate her, wobei kontrollierte Kristallwachstums-, Waferbearbeitungs- und Prüfverfahren zum Einsatz kommen, die auf eine gleichbleibende elektrische und mechanische Leistungsfähigkeit ausgelegt sind. Zu den verfügbaren Konfigurationen zählen halbisolierende und halbleitende Substrate, epitaxiefähige Oberflächen sowie kundenspezifische Waferausrichtungen und -dicken.
Substrate werden hinsichtlich wichtiger Parameter wie Ladungsträgerkonzentration, spezifischer Widerstand, Mobilität, Ätzgrubendichte, Gesamtdickenabweichung, Verzug und Oberflächenbeschaffenheit bewertet.
Warum lebenswichtige Materialien
- Integrierte Kompetenzen in den Bereichen hochreines Indium, InP-Substrate, Epitaxie, photonische Bauelemente und optische Verbindungstechnik
- VGF-gewachsene InP-Substrate sind in Größen von 2 bis 6 Zoll erhältlich
- Halbisolierende, n-Typ-, undotierte n-Typ- und p-Typ-Konfigurationen
- Epi-fähige Oberflächen mit kundenspezifischen Dicken und Waferausrichtungen
- Kontrollierte Fertigung und Prüfung mit Fokus auf eine geringe Fehlerdichte und eine gleichbleibende Waferleistung
- Technische Unterstützung von der Substratauswahl und -qualifizierung bis hin zur Produktionssteigerung